一、一般箱式炉真空烧结气压多少

一般箱式炉真空烧结的气压通常在10^-3至10^-5 Pa之间。真空烧结时，通过降低气压可以减少气体和杂质的存在，从而提高烧结品的致密度和材料的性能。同时，较低的气压还可以减少烧结过程中的氧化和互相反应的可能性。然而，具体的气压要根据烧结材料和工艺要求来确定。

二、真空气氛炉怎样降温快

真空气氛炉降温快方法：

1.箱式真空气氛炉内通入氮气,带走烧结产品的热量。

2.箱式真空气氛炉底开孔和硅钼棒的冷端的缝隙形成气体对流,去除箱式炉内本身的热量。

3.循环风冷法,冷却的时候把充入炉内的氮气抽出来经过凝塔,再送入炉内,要注意氮气的泄漏,注意安全循环使用。

4.改造冷却的速度,提高相对的工作效率,是每个公司都需要的一种工作状态,也是一种精神面貌的提升,新方法就是运用在新的技术方面投入新的产品计划。

三、请问真空热处理炉,真空退火炉,真空回火炉,真空淬火炉有什么区别

1、真空退火炉，真空回火炉，真空淬火炉，他们都叫真空热处理炉。真空退火的工艺跟真空回火的工艺是可以在同一台真空炉上做到的。真空退火炉和真空回火炉通常称作真空箱式炉或真空箱式气氛炉。真空淬火工艺必须要到专用的真空淬火炉上去做。

2、标准的真空箱式炉具有密封性能好，可以做到真空或充入惰性气体，在炉内退火、回火的材料不会氧化。

3、真空箱式炉也可以做普通的淬火，但与普通淬火炉一样会正常的氧化。如果要做到淬火不会氧化，那么一定要用到真空淬火炉。真空箱式炉和真空淬火炉由于他们的结构完全不一样，价格相差还是非常大的。

四、真空甩带炉原理

1、真空甩带炉是一种利用电热加热和管道真空系统实现物质的加热、蒸发和淀积的装置。它的工作原理是将高纯度的原料薄膜加热挥发，然后在真空环境中使薄膜沉积在基板上形成薄膜，以实现薄膜的制备和加工。

2、该设备具有高温、高真空度、均一加热等特点，因此广泛应用于光电子、半导体、化学、材料等领域中的薄膜制备和加工工艺。